• Предельный вакуум: 10^-7 мБар
• Система оптического контроля технологического процесса
• Кварцевый контроль толщины покрытий
• Карусельный и планетарный подложкодержатели
• Безмасляная вакуумная откачка
• Ионно-лучевая очистка и ассистирование
• Опционально: шлюзовая загрузка-выгрузка

• Исполнение с перчаточным боксом
• Внутренние размеры вакуумной камеры 700х700х700 мм
• Подложки устанавливаются в горизонтально расположенный термостатируемый подложкодержатель – реализована схема напыления «снизу вверх»
• Вакуумная камера герметично пристыкована к перчаточному боксу таким образом, что загрузка/выгрузка подложек осуществляется без разгерметизации на атмосферу
• Кварцевый датчик толщины на каждый канал распыления
• Ионное ассистирование
• Безмасляная вакуумная откачка

• Назначение: Нанесения алюминиевого термовакуумного покрытия на поверхности изделия из материала АГ-4В
• Оснастка представляет собой планетарный механизм с системой из 3-х сателлитов. Каждый сателлит имеет держатель для крепления детали
• Кубическая вакуумная камера 600х600х600мм
• Терморезистивный испаритель представляет собой спираль из вольфрамовой проволоки
• Ионный источник для очистки подложек
• Проведение цикла нанесения покрытия как в автоматическом, так и в ручном режимах.

• Высокая равномерность покрытия по толщине 2% достигается за счет сферического планетарного подложкодержателя. 
• Криогенная откачка позволяет проводить процесс при высоком вакууме 10^-6  мбар
• За счет ионного ассистирования покрытие получается более плотным и имеют более однородные свойства по толщине, лучшую адгезию и меньшее внутреннее напряжение
• Результат: после введения в эксплуатацию производительность установки выросла в 2 раза по сравнению с предыдущей установкой. Улучшились оптические показатели, улучшилась адгезия. Надежность установки обеспечивается автоматикой.

• Область применения: лаборатории, мелкосерийное производство
• Вакуумная камера: цилиндр с возможностью вертикального перемещения
• Давление: ≤ 10^-6 мБар
• Размеры камеры: Ø 350 мм, h 400 мм
• Оснастка: Карусельный держатель подложек
• Технологические устройства: терморезистивные испарители, ионные источники

• Вакуумная водохлаждаемая камера
• Система измерения вакуума
• Система нагрева испаряемого вещества
• Система напуска атмосферы
• АСУ и т.д.
• Результат: оснащение производства современным оборудованием для повышения качества выпускаемой продукции и обеспечения стабильности и повторяемости технических характеристик конечного изделия.

• Конструктивно установка вакуумного напыления выполнена в виде кубической вакуумной камеры, установленной на монтажной раме. Отдельно установлена стандартная 19-ти дюймовая телекоммуникационная стойка с источниками питания, контроллерами и управляющим компьютером, а также чиллер охлаждения
• Устройство напыления металлов - магнетрон постоянного тока (МРС)
• Высокочастотный магнетрон с мишенью диаметром 100 мм, частота питания 13,56 МГц
• Предельное остаточное давление в камере напыления составит 10^-6 торр

• Вакуумная камера из нержавеющей стали; объем камеры 0,5 м³; рабочий вакуум 5х10^-4 Па
• Система напыления: термоиспарители (низкотемпературные источники для терморезистивного газофазного напыления порошковых материалов)
• Вращение держателей подложек осуществляется без развакуумирования вакуумной камеры согласно заданной программе (рецепту).

• Установка предназначена для напыления токопроводящих контактов и многослойных покрытий различного назначения
• 4 технологических устройства: 3 магнетрона, 1 ионный источник
• 8-позиционный подложкодержатель
• Диаметр мишени – 50 мм
• Тип мишени – проводящие материалы
• Результат: Установка внедрена для отработки технологии мелкосерийного производства.

• Вертикально-цилиндрическая камера объемом 6м³
• Протяженные магнетроны с зоной равномерного напыления 1600 мм
• Оснастка: планетарный держатель подложек
• Цикл напыления: 40 мин
• Результат: Производительность участка напыления на АБС-пластик возросла в 3 раза при введении в эксплуатацию вакуумной установки напыления
• Снижены производственные издержки
• Увеличен межсервисный интервал за счет использования современных комплектующих.

• Вакуумная камера напыления колпакового типа с приводом вертикального перемещения
• Технологические устройства: магнетрон, ионный источник, карусельный подложкодержатель
• Результат: Установка запущена в лаборатории университета для изучения процессов напыления металлов.

• Расположение подложки: горизонтальное/вертикальное
• Шлюз загрузки-выгрузки
• Высокая производительность
• Линейная установка конвейерного типа, равномерность напыления <0,5% от толщины покрытия
• по всей площади подложки
• Предварительная подготовка подложек: 1. Дегазация прогревом; 2. Очистка ионным пучком
• Результат: Построена производственная линия международного уровня.

• Состав оборудования: печь, система откачки и наполнения изделий, система управления
• Вид воздействия на объект: термоциклирование
• Печь предназначена для размещения и нагрева испытываемых приборов
• Рабочий диапазон температур от 50 до 450°С

• Объем камеры: 14 м³
• Предельное остаточное давление без объекта испытания, но с навесным внутрикамерным оборудованием: 5*10^-6 мбар
• Нагрев объекта испытаний до 90°С
• Предназначение: установка подходит для термовакуумных испытаний как отдельных узлов, так и аппаратов целиком

Двухкоординатный стол перемещения:

• Диапазон перемещения по оси X - 350 мм
• Диапазон перемещения по оси Y - 350 мм

Стола вращения:

• Размер верхней плиты крепления: Ø 450 мм
• Размер основания: Ø 465 мм

Применение: научные экспериментальные станции, где требуется точное перемещение и минимальное влияние сторонних магнитных полей

• Формирование коллимированных потоков исследуемых атомов с минимальным разбросом скоростей, замедление потока атомов
• Охлаждение атомов до сверхнизких температур и их удержание 
• Обеспечение возможности оптической диагностики охлажденных атомов
• Обеспечение давления остаточных газов не более 10^-10 Па в области рабочей камеры
• Обеспечение контроля вакуума на выходе потока атомов из их источника и на входе в область рабочей камеры.

• Вакуумный объем переменной длины, имеющий 4 степени свободы и прецизионный держатель образцов.
• Уровень вакуума –  10^-4Па
• Точность позиционирования по углам - ±5"
• Точность позиционирования образцов по координатам XZ- ±2мкм

• Уровень вакуума – 10^-2Па
• Материал детекторной камеры – алюминиевый сплав АМг3
• Механизированные системы перемещения в вакууме
• Координатный столик образца
• Общая длина прибора – 11 м
• Диаметр исследовательской камеры – 1600 мм

• Вакуумная камера с оптическим столом и источниками плазмы
• Магнитное поле ~3 Тл
• Все узлы и элементы должны быть выполнены из немагнитных материалов
• Камера и оптический стол имеют механизированное перемещение.

• Вакуум – 10^-5 Па
• Дверь быстрой загрузки
• Сухая откачка
• Специальные оптические элементы
• Шероховатость стенок – Ra 0,8